Duyuruyu Kapat
Facebook Gözat
Twitter Gözat

Fotoelektrokimyasal yöntemle humik asit giderimi

Konu, 'Özel Teknik Konular' kısmında Fatih Özcan tarafından paylaşıldı.

  1. Fatih Özcan

    Fatih Özcan Site Kurucusu

    Fotoelektrokimyasal yöntemle humik asit giderimi

    Hüseyin SELÇUK*, Hasan Z. SARIKAYA
    İTÜ İnşaat Fakültesi Çevre Mühendisliği Bölümü


    Bu çalışmada fotokatalitik prosesinde hole ve elektron reaksiyonları fotoelektrokatalitik (FEK) prosesi içerisinde ayrılarak hole reaksiyonları ile humik asit (HA) giderimi toplam organik karbon (TOK),UV254 ve Vis400 parametrelerinin ölçülmesi ile incelenmiştir. UV254 ve Vis400 arıtımının birinci derece kinetik modele uyduğu tespit edilmiştir. 25 mgL-1 HA çözeltisi 2 saat süre ile FEK proses içerisinde arıtıldıktan sonra yaklaşık olarak %96 Vis400, %98 UV254 ve %80 TOK giderimi elde edilmiştir. FEK arıtma sisteminde HA gideriminin fotokatalitik sisteme göre çok daha fazla olduğu gözlenmiştir. FEK HA giderimine pH, elektrolit ve elektrik potensiyeli etkisi ayrıca araştırılmıştır.

    Makalenin tamamına ekten ulaşabilirsiniz.
     

    Ekli Dosyalar: