Fotoelektrokimyasal yöntemle humik asit giderimi
Hüseyin SELÇUK*, Hasan Z. SARIKAYA
İTÜ İnşaat Fakültesi Çevre Mühendisliği Bölümü
Bu çalışmada fotokatalitik prosesinde hole ve elektron reaksiyonları fotoelektrokatalitik (FEK) prosesi içerisinde ayrılarak hole reaksiyonları ile humik asit (HA) giderimi toplam organik karbon (TOK),UV254 ve Vis400 parametrelerinin ölçülmesi ile incelenmiştir. UV254 ve Vis400 arıtımının birinci derece kinetik modele uyduğu tespit edilmiştir. 25 mgL-1 HA çözeltisi 2 saat süre ile FEK proses içerisinde arıtıldıktan sonra yaklaşık olarak %96 Vis400, %98 UV254 ve %80 TOK giderimi elde edilmiştir. FEK arıtma sisteminde HA gideriminin fotokatalitik sisteme göre çok daha fazla olduğu gözlenmiştir. FEK HA giderimine pH, elektrolit ve elektrik potensiyeli etkisi ayrıca araştırılmıştır.
Makalenin tamamına ekten ulaşabilirsiniz.
Hüseyin SELÇUK*, Hasan Z. SARIKAYA
İTÜ İnşaat Fakültesi Çevre Mühendisliği Bölümü
Bu çalışmada fotokatalitik prosesinde hole ve elektron reaksiyonları fotoelektrokatalitik (FEK) prosesi içerisinde ayrılarak hole reaksiyonları ile humik asit (HA) giderimi toplam organik karbon (TOK),UV254 ve Vis400 parametrelerinin ölçülmesi ile incelenmiştir. UV254 ve Vis400 arıtımının birinci derece kinetik modele uyduğu tespit edilmiştir. 25 mgL-1 HA çözeltisi 2 saat süre ile FEK proses içerisinde arıtıldıktan sonra yaklaşık olarak %96 Vis400, %98 UV254 ve %80 TOK giderimi elde edilmiştir. FEK arıtma sisteminde HA gideriminin fotokatalitik sisteme göre çok daha fazla olduğu gözlenmiştir. FEK HA giderimine pH, elektrolit ve elektrik potensiyeli etkisi ayrıca araştırılmıştır.
Makalenin tamamına ekten ulaşabilirsiniz.